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> 半導體使用臭氧水清洗處理方法
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半導體使用臭氧水清洗處理方法
①減少化學藥品的使用
a) 半導體用化學藥品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW),但是SC1 和SC2是相對較貴,并且需在60-100 ℃的高溫條件下發生作用,難以使用。而近年,臭氧水作為可替代SC1 和SC2 的新的清洗方式, 受到廣泛關注。因為僅僅是將純凈水通過臭氧水生成器,便可以簡單地產生臭氧,因此可大大降低運營成本。
b) 使用臭氧水進行清洗處理后,臭氧成分便迅速蒸發,因此廢水處理也十分容易。
②出色的清洗能力(顆粒, 金屬污染物,有機物質)
因為臭氧擁有僅次于氟素的氧化還原能力,其清洗能力高于SC1、SC2尤其是用于清洗表面很難氧化的碳化硅或氮化鎵基板也十分有效。(兩者作為半導體材料受到廣泛關注)
推薦的清洗處理方法
※清洗裝置使用枚葉式主軸。
標簽:
臭氧水(9)
清洗(2)
半導體(2)
處理方法(1)
經典成功案例
加拿大M1000高精度臭氧機
3S-J5000高濃度臭氧濃度檢測儀
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